《日本经济新闻》讯，中日韩三国政府明年春季将召开知识产权局、特许厅的事务级对口磋商，此后将定期举行知识产权部门负责人定期磋商，着手统一专利、设计等知识产权制度。会议将力求简化三国间国际专利的申请手续，统合三国间不同的专利审查体系，最终达到三国专利审查基准的统一。据悉，日韩将在会议上向中方提出统一外观设计专利受理范围以及将易受侵害的知识产权实施优先受理等要求。

该报称，近年来日韩在中国的专利申请数急增，同时出现了专利审查较慢、仿制品增加等问题。统一三国专利制度将有利于减少摩擦、减轻专利申请企业负担，企业可以在地区内整体开展生产和销售，为今后建立自由贸易区打下基础。此外，如果中日韩的专利制度统一取得进展，将有利于世界范围内知识产权制度的统一。